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当社独自のショートパルスVHFプラズマCVD法により，シリコン結晶薄膜（微結晶シリコン薄膜）をメータ角サイズの大面積に亘って均一に成長させる技術を開発した。この薄膜技術を用いて，光電変換効率（安定化効率）が10％を超える大面積薄膜シリコン太陽電池が得られたことを報告する。
A novel growth technology of microcrystalline silicon (µc-Si:H) thin films has been developed using short-pulsed-VHF plasma CVD method, which has reduced crystalline inhomogeneity in a film over square meter in size. By this novel fabrication technology, we have realized a large-scaled thin-film silicon solar cell with over 10% stabilized conversion-efficiency.
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