|
最新の液晶ディスプレイ製造プロセスでは，半導体製造プロセスと同様にフッ酸を使用して工程基板の表面洗浄を行っている。実際に使用するフッ酸の濃度は約1%前後であり，フッ酸処理後に純水洗浄を行うため，結果として数千ppm程度の希薄フッ酸排水が多量に発生する。
構築した新リサイクルシステムは，発生した希薄フッ酸の排水を全量回収して減圧濃縮し，11〜12%のフッ酸成分と蒸留水とに個別回収を可能にしたものである。
本システムは，環境アセスメントを受けて構築したグリーンファクトリーに有効なシステムであるばかりでなく，環境負荷を極小化できる技術として他の事業所に大いに発展可能である。
In the latest liquid crystal display manufacturing process, the surface
cleaning of the panels is performed using hydrofluoric (HF) acid,
as in the semiconductor process. The concentration of actually used
HF acid is approximately above or below 1%, and large quantities of
a few thousand ppm, diluted HF acid are generated as drainage after
pure water post-cleaning process.
The newly built recycling system utilizes the total quantities of
thus generated diluted HF acid, carries out condensation in reduced
pressure, and enables the total recovery of 11〜12% HF acid ingredient
and distilled water, separately.
This system operates most effectively in the "Green Factory",
which has been built on the basis of environmental assessment. It
can also be extended to other factories, since it is quite effective
in minimizing environmental load.
|
 |
 |
（408kb） |
|
|
|