受光面に電極のない，いわゆる裏面電極型，またはバックコンタクトと呼ばれるタイプの新規構造高効率シリコン太陽電池の開発を行った。高品位の表面パッシベーションを得るために，受光面には２層シリコン窒化膜が適しており，裏面のパッシベーションにはシリコン窒化膜よりも酸化膜が適していることを見出した。さらにスクリーン印刷法に適したデザインルールについて検討を行い，ピッチに対するp⁺拡散領域の割合，すなわち接合面積率をおよそ70％に固定すべきであることを見出した。これらの結果に加え，焼成プロセスと銀ペーストを最適化することによって，従来の太陽電池と同等のコストで高効率太陽電池を量産する目処を得ることができた。

　We have investigated a newly designed high efficiency Si solar cell. It is called back-contact type or rear-contact type of the solar cell, because it has no electrode on the front surface. To get better surface passivation property, we applied the double layer SiNx (DLSiN) to the front surface. On the other hand, it was found that SiO₂ layer was more suitable than SiNx layer for the rear surface passivation. Furthermore, we studied the design rules suitable for the screen-printing method, and found that the ratio of the p⁺ diffusion region width to the pitch, i.e. the junction ratio should be fixed to roughly 70%. In addition to these results, optimizing the firing process and the Ag paste, we obtained the prospect of the mass-production of high efficiency solar cell with comparable cost to the conventional solar cell.